Pangembangan kanthi cepet ing bidang informasi lan optoelektronik wis ningkatake nganyari terus-terusan teknologi polishing mekanik kimia (CMP).Saliyane peralatan lan bahan, akuisisi permukaan ultra-dhuwur presisi luwih gumantung ing desain lan produksi industri partikel abrasif efisiensi tinggi, uga persiapan slurry polishing sing cocog.Lan kanthi nambah akurasi pangolahan permukaan lan syarat efisiensi, syarat kanggo bahan polishing kanthi efisiensi dhuwur uga saya dhuwur.Cerium dioxide wis digunakake digunakake ing mesin tliti lumahing piranti microelectronic lan komponen optik tliti.
Bubuk polishing cerium oxide (VK-Ce01) nduweni kaluwihan kemampuan pemotongan sing kuwat, efisiensi polishing dhuwur, akurasi polishing dhuwur, kualitas polishing apik, lingkungan operasi sing resik, polusi sing kurang, umur layanan sing dawa, lan liya-liyane, lan akeh digunakake ing polishing tliti optik lan CMP, etc lapangan manggoni posisi penting banget.
Sifat dhasar saka cerium oxide:
Ceria, uga dikenal minangka cerium oxide, minangka oksida saka cerium.Ing wektu iki, valensi cerium yaiku +4, lan rumus kimia yaiku CeO2.Produk murni yaiku bubuk abot putih utawa kristal kubik, lan produk sing ora murni iku kuning cahya utawa malah jambon nganti wêdakakêna abang-coklat (amarga ngandhut jumlah tilak lanthanum, praseodymium, lsp.).Ing suhu lan tekanan kamar, ceria minangka oksida cerium sing stabil.Cerium uga bisa mbentuk +3 valensi Ce2O3, sing ora stabil lan bakal mbentuk CeO2 sing stabil karo O2.Cerium oxide rada larut ing banyu, alkali lan asam.Kapadhetan yaiku 7,132 g / cm3, titik lebur yaiku 2600 ℃, lan titik didih yaiku 3500 ℃.
Mekanisme polishing saka cerium oksida
Kekerasan partikel CeO2 ora dhuwur.Kaya sing ditampilake ing tabel ing ngisor iki, kekerasan cerium oksida luwih murah tinimbang inten lan aluminium oksida, lan uga luwih murah tinimbang zirkonium oksida lan silikon oksida, sing padha karo ferric oxide.Mula, sacara teknis ora bisa kanggo ngresiki bahan basis silikon oksida, kayata kaca silikat, kaca kuarsa, lan liya-liyane, kanthi ceria kanthi kekerasan sing sithik saka sudut pandang mekanik.Nanging, cerium oxide saiki dadi bubuk polishing sing disenengi kanggo polishing bahan basis silikon oksida utawa malah bahan silikon nitrida.Bisa dideleng yen polishing cerium oxide uga nduweni efek liyane kajaba efek mekanik.Kekerasan berlian, sing minangka bahan penggiling lan polishing sing umum digunakake, biasane duwe lowongan oksigen ing kisi CeO2, sing ngganti sifat fisik lan kimia lan duwe pengaruh tartamtu marang sifat polishing.Serbuk polishing cerium oxide sing umum digunakake ngemot jumlah oksida bumi langka liyane.Praseodymium oxide (Pr6O11) uga nduweni struktur kisi kubik sing dipusatake ing pasuryan, sing cocok kanggo polishing, dene oksida bumi langka lantanida liyane ora duwe kemampuan polishing.Tanpa ngganti struktur kristal CeO2, bisa mbentuk solusi sing padhet ing sawetara tartamtu.Kanggo bubuk polishing nano-cerium oxide kanthi kemurnian dhuwur (VK-Ce01), sing luwih dhuwur kemurnian cerium oxide (VK-Ce01), luwih gedhe kemampuan polishing lan umur layanan sing luwih dawa, utamane kanggo kaca hard lan lensa optik kuarsa kanggo a dangu.Nalika polishing siklik, disaranake nggunakake bubuk polishing cerium oxide kemurnian dhuwur (VK-Ce01).
Aplikasi bubuk polishing cerium oxide:
bubuk polishing cerium oxide (VK-Ce01), utamané digunakake kanggo polishing produk kaca, iku utamané dipigunakaké ing kothak ing ngisor iki:
1. Kacamata, polishing lensa kaca;
2. Lensa optik, kaca optik, lensa, lsp;
3. Kaca layar ponsel, permukaan jam tangan (pintu jam tangan), lsp;
4. LCD monitor kabeh jinis layar LCD;
5. Rhinestones, berlian panas (kertu, berlian ing jins), bola lampu (candelier mewah ing aula gedhe);
6. Kerajinan kristal;
7. Sebagean polishing saka jade
Derivatif polishing cerium oxide saiki:
Lumahing cerium oxide wis doped karo aluminium kanggo Ngartekno nambah polishing saka kaca optik.
Departemen Riset lan Pengembangan Teknologi UrbanMines Tech.Limited, ngajokaken sing compounding lan modifikasi lumahing partikel polishing minangka cara utama lan pendekatan kanggo nambah efficiency lan akurasi CMP polishing.Amarga sifat partikel bisa disetel dening compounding unsur multi-komponen, lan stabilitas sawur lan efficiency polishing slurry polishing bisa apik dening modifikasi lumahing.Ing preparation lan kinerja polishing bubuk CeO2 doped karo TiO2 bisa nambah efficiency polishing dening luwih saka 50%, lan ing wektu sing padha, cacat lumahing uga suda dening 80%.Efek polishing sinergis saka oksida komposit CeO2 ZrO2 lan SiO2 2CeO2;mulane, teknologi preparation doped ceria micro-nano komposit oksida iku pinunjul gedhe kanggo pangembangan bahan polishing anyar lan diskusi mekanisme polishing.Saliyane jumlah doping, negara lan distribusi dopan ing partikel sing disintesis uga mengaruhi sifat permukaan lan kinerja polishing.
Antarane wong-wong mau, sintesis partikel polishing karo struktur cladding luwih atraktif.Mulane, pilihan metode lan kondisi sintetik uga penting banget, utamane cara sing prasaja lan larang regane.Nggunakake cerium karbonat terhidrasi minangka bahan baku utama, partikel polishing cerium oksida aluminium-doped disintesis kanthi metode mekanokimia fase padat udan.Ing aksi gaya mekanik, partikel gedhe saka cerium karbonat terhidrasi bisa dipecah dadi partikel sing apik, nalika aluminium nitrat bereaksi karo banyu amonia kanggo mbentuk partikel koloid amorf.Partikel koloid gampang ditempelake ing partikel cerium karbonat, lan sawise pangatusan lan kalsinasi, doping aluminium bisa digayuh ing permukaan cerium oxide.Cara iki digunakake kanggo nyintesis partikel cerium oksida kanthi jumlah doping aluminium sing beda-beda, lan kinerja polishing kasebut ditondoi.Sawise jumlah aluminium sing cocok ditambahake ing permukaan partikel cerium oxide, nilai negatif saka potensial permukaan bakal nambah, sing ndadekake celah ing antarane partikel abrasif.Ana tolak elektrostatik sing luwih kuat, sing ningkatake stabilitas suspensi abrasif.Ing wektu sing padha, ing Adsorption Teknologi antarane partikel abrasive lan lapisan alus daya positif liwat atraksi Coulomb uga bakal dikuwati, kang ono gunane kanggo kontak bebarengan antarane abrasive lan lapisan alus ing lumahing kaca polesan, lan dipun promosiaken. dandan saka tingkat polishing.